https://cn.nikkei.com/columnviewpoint/column/57484-2025-01-03-05-00-44.html 日經中文網, January 3, 2025
圖片來源: ASML
摘要:
荷蘭艾司摩爾(ASML)的EUV光刻設備於2024年首次引進日本,由Rapidus在北海道千歲工廠安裝,美光與台積電也計劃陸續導入。艾司摩爾憑藉前總裁Martin
van den Brink的領導,提高光源輸出功率,使EUV技術實用化,並壟斷市場。未來,數值孔徑(NA)將逐步提升,預計2035年前後達0.75。雖日本未能主導EUV設備,但在光罩、IC載板及測試設備領域貢獻巨大。隨著日本科研機構發展新技術,EUV光刻領域仍存潛在突破機會。