https://cn.nikkei.com/columnviewpoint/column/57484-2025-01-03-05-00-44.html 日經中文網, January 3, 2025
圖片來源: ASML
摘要:
荷蘭艾司摩爾（ASML）的EUV光刻設備於2024年首次引進日本，由Rapidus在北海道千歲工廠安裝，美光與台積電也計劃陸續導入。艾司摩爾憑藉前總裁Martin van den Brink的領導，提高光源輸出功率，使EUV技術實用化，並壟斷市場。未來，數值孔徑（NA）將逐步提升，預計2035年前後達0.75。雖日本未能主導EUV設備，但在光罩、IC載板及測試設備領域貢獻巨大。隨著日本科研機構發展新技術，EUV光刻領域仍存潛在突破機會。
評論:
EUV光刻設備的引進標誌著日本半導體產業正試圖重返高階晶片製造競爭，然而，ASML的技術壟斷已讓日本企業錯失主導權。即便如此，日本仍透過光罩、IC載板與測試設備等關鍵周邊技術維持產業競爭力。值得注意的是，美中科技戰讓中國難以取得EUV設備，卻可能加速其自主開發，對全球半導體供應鏈帶來變數。未來，若日本能在EUV光刻技術與材料創新上有所突破，仍有機會在全球晶片製造領域發揮更大影響力。
